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2023-110
高壓滅菌鍋是實驗室中常見的一種殺菌、滅菌設(shè)備，在很多行業(yè)中都有重要的應(yīng)用，具有受熱面積大，熱效率高、加熱均勻、液料沸騰時間短、加熱溫度容易控制等優(yōu)點，不過隨著使用時間的延長，以及滅菌鍋設(shè)備的老化，會導(dǎo)致儀器的殺菌效果降低，進而影響其他試驗的結(jié)果，因此這個時候要避免由于滅菌鍋殺菌不干凈對試驗結(jié)果的影響，就必須要要檢測其滅菌效果。檢測方法如下：1.化學(xué)指示劑：苯甲酸的熔點為121-123℃，滅菌后看到苯甲酸粉末變成液態(tài)，冷卻后成固體，表示已達到滅菌的目的。2.留點溫度計：這種方式...
查看更多2023-14
等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子清洗技術(shù)已日漸成熟，越來越多的工業(yè)制造使用到清洗機，這也會出現(xiàn)...
查看更多2022-1230
2022-1220
伴隨著科技的不斷發(fā)展，電子產(chǎn)品正朝著便攜、小型化、高性能化方向發(fā)展，封裝質(zhì)量的優(yōu)劣將直接影響電子產(chǎn)品的成本和性能，用等離子清洗技術(shù)去除材料表面的污染物，提高表面活性，從而提高封裝質(zhì)量已經(jīng)成為封裝中不可缺少的工藝過程。由于封裝技術(shù)本身的局限性，批量等離子清洗設(shè)備正逐漸被在線方式所取代。針對一種在線等離子清洗設(shè)備，對其配線性能進行研究設(shè)計，提出了提高清洗效果和產(chǎn)能的有效解決方案。隨著微電子科技的不斷發(fā)展，處理器芯片的頻率越來越高、功能越來越強、引腳數(shù)量越來越多、芯片特性尺寸越來越...
查看更多2022-1213
等離子體清洗作為一種先進的干式清洗技術(shù)，具有綠色環(huán)保等特點。隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，等離子清洗機也在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用越來越多。同時隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對工藝技術(shù)的要求越來越高，特別是對半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)，其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率，在目前的集成電路生產(chǎn)中，由于圓片表面沾污問題，仍有50%以上的材料被損失掉。等離子清洗機在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝上的應(yīng)用等離子體清洗具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。但...
查看更多2022-127
今天小編給大家講講等離子清洗(處理)后時效性能保持多久?低溫等離子體技術(shù)是一種清潔且高效節(jié)能的新型材料表面改性技術(shù)。該技術(shù)在改善材料表面性能的同時，仍可保持本體性能的特色，在材料表面改性方面具有廣闊的應(yīng)用前景。低溫等離子體中高能粒子的能量一般約為幾至幾十電子伏特,大于聚合物材料分子的結(jié)合鍵能(幾至十幾電子伏特),完全可以使有機大分子鏈發(fā)生斷裂。經(jīng)過低溫等離子體處理的材料表面發(fā)生多種物理和化學(xué)變化,例如產(chǎn)生刻蝕,形成致密的交聯(lián)層以及引入極性基團,使材料的親水性、粘結(jié)性、染色性、...
查看更多2022-122
等離子清洗機可以用來去除油污嗎，答案是：可以。清洗機能夠有效去除基底表面吸附的有機小分子以及油污。油脂污染物主要成分為碳氫化合物，等離子體中高能態(tài)原子團自由基易與化合物分子結(jié)合形成新的不穩(wěn)定的自由基，新生成的自由基進一步分解，在生成小分子的同時產(chǎn)生新的自由基，該過程持續(xù)進行，油脂污染物中的碳氫化合物被這些活性氧原子所氧化，產(chǎn)生二氧化碳和水,從而實現(xiàn)油脂污染物的去除。等離子清洗機去除油污的常見應(yīng)用：引線框架表面油污去除：封裝前,通常釆用等離子清洗技術(shù)去除引線框架上由于沖壓工序產(chǎn)...
查看更多2022-1123
校準(zhǔn)儀器校準(zhǔn)：采用紫外光法臭氧檢測儀對已生產(chǎn)的臭氧檢測儀進行分布選取10個測試點對比，誤差范圍控制在+1%以內(nèi)為合格?；瘜W(xué)滴定法：化學(xué)方法即碘化鉀、硫代硫酸鈉滴定法來檢測臭氧濃度。我們也分布選取10個測試點，然后用臭氧檢測儀與化學(xué)滴定法測試的10個點進行對比，誤差范圍控制在+1%以內(nèi)。碘化鉀滴定法原理是用強氧化劑臭氧與碘化鉀反應(yīng),使碘游離出來到水里，水就會變?yōu)椴枭?。（反?yīng)式：O3+2KI+H2OO2+I2+KOH）利用硫代硫酸鈉標(biāo)準(zhǔn)液滴定，使游離碘變?yōu)榈饣c，反應(yīng)終點為水褪色...
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